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4in.三靶聚焦共溅射镀膜系统,可以满足多组份或多层金属和化合物溅射镀膜,样品台同时具备公转和自传功能,可以同时安装多片100mm样品,薄膜厚度均匀性达到5%,靶材利用率达到40%以上。强磁场设计,可以满足铁磁材料溅射。溅射阴极主体采用聚四氟乙烯设计,优化水冷设计,可以满足大功率密度溅射,成膜速率提高30%以上。
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