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超高真空多腔体磁控溅射系统
技术参数：
基板：可加热至RT-900ºC，可旋转，基板与靶材距离连续可调，晶圆和靶空间可以连续变化
极限真空：<3E-9Torr
基板传输：高度可靠和可重复的基板传输能力
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