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产品应用：
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成：
PECVD系统配置：
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.滑动系统分为手动、电动滑动，并配置管内测温系统。
3.预加热开启式管式电炉
4.等离子射频电源
5.多路质量流量控制系统
6.真空系统（可选配中真空或高真空）
产品特点：
生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。
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