液体硅橡胶分散机,气硅分散机橡胶分散机,液体硅橡胶研磨分散机,液体硅橡胶分散设备,化工分散机
液体硅橡胶又称双组份加成性硅橡胶。液体硅橡胶是相对混炼型半固态硅橡胶和常见室温硫化单组分硅胶而言的一类有机硅胶,这类胶具有流动性好,硫化快,可以浇注成型可以注射成型。液态硅橡胶又分为自粘型和非自粘型两大类。液态硅胶可以常温固化可以高温固化。高温固化的可以在数秒钟内完成固化过程。
液体硅橡胶分散机,液体硅橡胶研磨分散机,液体硅橡胶分散设备,含有20%气相二氧化硅,高温下和有水存在是会接皮。如何让气相二氧化硅均匀的分散到体系当中,是一个比较大的难点。因为液体硅橡胶本身粘度高,难以流动,再加上气相二氧化硅本身达纳米级粒径,容易团聚难以分散。
传统的批次分散机也就是所谓的插入罐体内的分散设备,难以处理。根本分散不开,导致*后产品分散性差,均匀度低。
所以上海IKN工程师建议采用管线式分散设备进行处理。主要考虑以下2点:
1、液体硅橡胶一般粘度都比较高,采用批次分散机必然难以分散,而采用管线式分散机的话,只要物料能进入分散机工作腔体,物料就可以完全的得到分散,产品均匀度高。而采用管线式分散机必须要解决的问题就是液体硅橡胶的流动性,结合客户案例,如果液体硅橡胶难以流动,可在管线式分散机前段加一台输送泵,确保液体硅橡胶的流动性。
2、液体硅橡胶分散的主要目的,就是将体系中的气相二氧化硅,充分并且均匀的分散。因为气硅本身为纳米级,分散到硅油中容易团聚,所以必须有一个较强的剪切力去打散二级团聚物,再瞬间进行分散,从而得到高品质的液体硅橡胶产品。
综合来看,IKN工程师推荐CMD2000系列研磨分散机,研磨分散机是研磨机(胶体磨)+分散机一体化的设备,先研磨后分散,在纳米级物料分散领域有着广泛的应用,如:纳米白炭黑分散、纳米氧化物分散、锂电池浆料分散、石墨烯浆料分散机、纳米医药混悬液分散等,有着突出的优势。
IKN研磨分散设备的五大特点:
1、独特的结构设计:胶体磨头+分散盘定转子,研磨分散一步到位。
2、超高剪切速率:剪切速率是指线速度除以定转子间隙。并不是线速度越大剪切速率就越高,有些国内厂家分散设备线速度很高(转子直接大),而剪切速率却很低,因为他们的定转子间隙很大。而上海IKN研磨分散机,转速为14000rpm,线速度为44m/s,定转子间隙为0.2-0.3mm,综合剪切速率是国内分散设备的4-5倍。
3、磨头及定转子精密度高:纯德国进口,加工精度高,设计完善。
4、德国博格曼双端面机械密封,将泄漏降至更低,并带有机械密封循环冷却系统,在保证冷却水的前提下,可24小时运行。
5、模块化设计,拆装简单,可在线清洗和在线灭菌。设备各环节都带有夹套,可进行冷却或升温,满足各种不同工艺。
CMD2000系列研磨分散设备选型表
研磨分散机 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到允许量的10%。 |
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