半自动研磨抛光
将 SP-L1 安装在 IM-P2 上即可实现半自动研磨，提高制样效率。
独立加载方式
每个样品可单独加压（10–40N），*多可同时处理 3 个样品，适合不同厚度或材质的样品。
转速可调，保持平行度
支架和研磨盘可同步旋转，转速可调（0–200rpm），有效防止样品表面倾斜或呈铅笔状，确保研磨面平行度。
适用多种研磨阶段
粗磨：使用砂纸或抛光垫，转速约 200rpm；
精磨：使用金刚石研磨液 + Takuma 抛光纸，转速 65–150rpm。
标配润滑滴注装置
附带“Lubricator”润滑器，可调节滴量，提升抛光质量并延长耗材寿命。
兼容多种样品尺寸
标配样品架规格为 Φ25mm、Φ30mm、Φ40mm，支持定制夹具。
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| 项目 | 参数说明 |
|---|---|
| 转速范围 | 0–200rpm（可调） |
| 样品数量 | 1–3 个（可自由选择） |
| 加压方式 | 弹簧式单独加载，10–40N/样品 |
| 样品架尺寸 | Φ25mm、Φ30mm、Φ40mm × 3 |
| 润滑器 | 标配（带流量调节和开/关阀） |
| 电源 | 单相 100V 或 200–220V |
| 尺寸/重量 | W460 × D655 × H550mm（约 50kg） |
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