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高真空磁控溅射镀膜设备JCP200
高真空磁控溅射镀膜设备JCP200
  • 型号

    高真空磁控溅射镀膜设备JCP200
  • 产地

    北京
  • 品牌

    北京泰科诺
  • 产品分类

    专用设备
  • 关注度

    1017
  • 参考报价

产品详情

设备型号: JCP200

真空腔室结构: 立式上开盖结构

真空腔室尺寸: Φ220mm×H300mm

加热温度: 室温~ 500℃

基片台尺寸: Φ100mm

膜厚不均匀性: Φ50mm 范围内≤ ±5.0%

溅射靶: Φ2 英寸磁控靶 1 支 兼容 DC/RF 溅射

工艺气体 :1-2 路气体流量控制

控制方式 :PLC + 触摸屏控制

占地面积 (主机) :L600mm×W800mm×H1700mm

总功率 :≥ 6kW


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