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设备型号:ZHD300 镀膜方式:多源金属蒸发真空腔室结构:玻璃钟罩 + 不锈钢底座真空腔室尺寸:Φ300mm×H360mm 加热温度:室温~ 250℃ 基片台尺寸:Φ100mm 膜厚不均匀性:Φ80mm 范围内≤ ±5.0% 蒸发源:2组金属蒸发源控制方式:PLC + 触摸屏控制占地面积:主机 L1100mm×W800mm 总功率:≥ 5kW 适用范围:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备
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