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设备型号：JCPF2600
镀膜方式：磁控溅射
真空腔室结构：SUS304 方箱式
真空腔室尺寸：L2600mmxH700mmxW260mm
极限真空：优于 5.0x10-5Pa
基片台尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片温度：常温
溅射靶：矩形平面靶1套，旋转柱状靶2套
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：15000mmx5000mm
供电总功率：≥ 20kW 三相五线制
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