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等离子化学气相沉积系统-PECVD

公司：安徽助研仪器有限公司

地址：安徽

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简介：名称：等离子化学气相沉积系统-PECVD型号：ZYE-1200-PE简介：为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）

无掩膜光刻机

公司：安徽泽攸科技有限公司

地址：安徽

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简介：泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备，它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形，而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光，形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、M

电子束光刻机

公司：安徽泽攸科技有限公司

地址：安徽

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简介：泽攸科技ZEL304G电子束光刻机（EBL）采用场发射电子枪，配合一体化的高速图形发生系统实现对半导体晶圆的高速、高分辨光刻。该系统标配高精度激光干涉样品台，允许用户实现大行程高精度拼接和套刻需求，在

等离子体增强化学气相沉积系统CVD

公司：安徽泽攸科技有限公司

地址：安徽

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简介：多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统（CVD）是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术，主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离，促进化学反应在较低的温度下进行，从而在基片上沉积出所期望的薄膜

四方仪器红外气体传感器 Gasboard-2061

公司：四方光电（武汉）仪器有限公司

地址：湖北

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简介：产品名称：红外气体传感器产品型号：Gasboard-2061红外气体传感器产品概述红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器，产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产

红外气体传感器 Gasboard-2060

公司：四方光电（武汉）仪器有限公司

地址：湖北

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简介：产品名称：红外气体传感器产品型号：Gasboard-2060红外气体传感器产品概述红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器，产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产

CVD 真空化学气相沉积设备

公司：沈阳威泰科技发展有限公司

地址：辽宁

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简介：CVD真空化学气相沉积设备详情CVD设备适用于热丝法化学气相沉积金刚石，采用钨丝/钽丝作为加热器，加热分解碳物质，激活化学气相反应，制备金刚石膜。安装形式立式加热器分布方式圆周分布加热器材质钨丝/钽丝

DDCOM台式X射线衍射仪

公司：马尔文帕纳科

地址：上海

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简介：DDCOM用于超快速晶体取向测量用于晶体取向测量的台式X射线衍射仪(DDCOM)是一种用于自动测定各种晶体取向的工具。超快速扫描方法速度是Theta扫描方法的200倍以3D形式自动评估完整晶格取向在1

SDCOM小型衍射仪

公司：马尔文帕纳科

地址：上海

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简介：用于晶体取向测量的SDCOM小型衍射仪用于单晶（晶锭和晶圆）的材料研究、生产和质量控制的台式XRD设备。Si|SiC|金刚石|AIN|GaAs|石英|LiNbO₃|bbo|GaN和其他一百多种材料。S

Wafer XRD

公司：马尔文帕纳科

地址：上海

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简介：WaferXRD用于全自动晶圆拣选、生产和质量控制特点适用于3到8寸晶圆。也可根据要求提供其他尺寸FOUP、载具或单个晶圆台跨槽晶圆识别为可选功能易于集成到任何工艺生产线中测量速度：每个样品＜10秒典