陶瓷材料断面观察用飞纳台式电镜 Phenom XL G3

产品简介

Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜，可用于陶瓷材料断面观察，帮助分析晶粒、孔隙、裂纹和断裂形貌。

Phenom XL G3 平均成像时间约 40 秒，可对** 100 x 100 mm 的样品进行分析，适合较大尺寸样品或多样品检测场景。设备采用 CeB6 灯丝，电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，适用于日常质检、研发分析、失效分析和样品测试等应用。

该产品具备大仓室样品台、低/中/高三种真空模式、背散射探测器，并可根据需求选配二次电子探测器和能谱探测器。具体配置和价格根据型号、功能及应用需求确定，可通过平台询价/留言入口获取官方选型建议，并预约试样。

技术参数

Phenom XL G3 的光学放大倍率为 3 至 19 X，电子光学放大倍率上限 200,000 X，分辨能力优于 8 nm。电子枪采用 CeB₆ 灯丝，使用寿命优于 3000 小时。加速电压支持基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV 及高级模式 4.8 kV 至 20.5 kV 连续可调，真空模式涵盖低、中、高三档。标准探测配置为背散射探测器，可选扩展二次电子探测器及能谱探测器。整机配备彩色光学导航相机。

功能特性

该设备的核心优势在于其大仓室兼容性与高分辨成像能力的结合。100 × 100 mm 载物平台配合 36 位并行装载，满足陶瓷材料大尺寸样品及批量筛查需求。200,000 X 电子光学放大倍率配合优于 8 nm 的分辨率，可清晰呈现陶瓷晶界、气孔及微裂纹等微观特征。CeB₆ 灯丝寿命优于 3000 小时，降低了频繁更换灯丝的维护成本。三档真空模式设计使设备能够灵活应对陶瓷材料常见的非导电特性，低真空模式有效缓解荷电效应，高真空模式则保障极限分辨需求。背散射探测器作为标准配置提供成分衬度信息，增配二次电子探测器可获取更丰富的表面形貌细节，能谱探测器的加入则实现微区元素定性分析。

适用方向

该设备主要服务于陶瓷材料断面观察、陶瓷晶粒分析、无机非金属材料检测、失效溯源及研发质控等环节，适用于陶瓷生产企业、科研院所及第三方检测机构。

服务支持

设备配置及价格根据型号、功能配置、探测器选型、应用需求及服务方案综合确定。用户可通过粉体网平台询价入口提交具体测试需求，获取针对性选型建议并预约试样。如需了解 Phenom XL G3 在陶瓷材料断面观察方向的详细配置方案、应用资料或商务报价，可通过平台留言入口联系。