用于液晶及半导体的光刻胶过滤

在光刻工艺中，用于过滤光刻胶的过滤器就是ADVANTEC品牌的卡式过滤器。随着半导体工艺的不断精细化，光刻胶的分辨率也在逐年提高，因此用于过滤的光刻胶的过滤器也必须具备纳米级的精细度。具有高纯度以及纳米级孔径的全聚乙烯卡式过滤器（TCE），已成为用于光刻胶过滤的代表性过滤器。

日本 Advantec（东洋）全氟树脂系列为多品类折叠式卡式滤芯，四大型号分工明确，适配半导体、面板、精细化工不同过滤工况。

• TCF 型：PTFE 疏水膜滤芯，壳体 PFA 全氟材质，耐强酸强碱、强有机溶剂，精度 0.05‑3.0μm，用于光刻胶、蚀刻液、各类溶剂、气体过滤，全热熔焊接无胶水析出。

• TCP 型：PP 聚丙烯折叠滤芯，高纳污深度褶式结构，面向高粘度药液、大杂质前置保安过滤，适合大流量预处理工序。

• TCNM 型：尼龙亲水膜折叠滤芯，原生亲水无需异丙醇预润湿，精度 0.1‑0.45μm，适配水相、极性溶剂、光刻胶过滤。

• TCN 型：尼龙无纺布深度折叠滤芯，侧重粗滤、保安预过滤，纳污容量大，保护后端高精度滤芯。

全系列支持 222、226、DOE 通用接口，可适配标准滤壳；出厂逐支开展气泡点完整性检测，金属离子溶出低，可耐受高温，广泛用于半导体湿制程、LCD 面板、精细化学品、新材料生产，实现多级过滤搭配，从前置保安到终端精密过滤全覆盖。