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日本 Advance-Riko APD 系列 电弧等离子体纳米粒子生成装置
日本 Advance-Riko APD 系列 电弧等离子体纳米粒子生成装置
  • 型号

    APD 系列
  • 产地

    日本
  • 品牌

  • 产品分类

    造粒机
  • 关注度

    101
  • 参考报价

    1万元以下
产品详情

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碳、金属·钢铁、热电材料·珀尔帖元件、陶瓷材料、磁性材料、催化剂、热电评估、纳米粒子蒸镀、热电测定、薄膜涂层·纳米粒子涂层


一种利用脉冲真空电弧放电技术来制备纳米粒子的新型装置

脉冲真空电弧蒸发是一种能够以简单流程生成金属离子,并进而制造出极薄薄膜或纳米粒子的独特方法。
通过这种方法,可以获得其他蒸发技术无法实现的优点,比如膜的平整度以及微粒的精准控制等。


用途

  • APD-S(基板蒸镀模型)
    金属薄膜(磁性、等离子体、保护膜)、纳米粒子

  • APD-P(粉体担载模型)
    基于纳米粒子的燃料电池催化剂、废气催化剂、光催化剂、VOC分解催化剂、碳纳米管催化剂、等离子体催化剂

特点

  • 通过改变电容器的容量,可以自由地将纳米颗粒的粒径控制在1.5纳米到6纳米之间。

  • 只要是导电性材料(靶材),任何材料都可以被等离子体化。
    ※目标电阻率0.01Ωcm以下

  • *多可同时蒸镀6个源。

  • 通过改变氛围,即可轻松生成氧化物和氮化物。

  • 与湿法相比,负载型纳米粒子表现出更强的催化活性。

规格

型式APD-SAPD-P
试样尺寸基板
φ 2英寸
粉体

样品容器尺寸(内径) 

φ 95毫米×高30毫米,配有搅拌机构

标准蒸着源数11


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铁与碳的多层膜
可以看出,刻度尺的尺度为5纳米,而铁元素(黑色部分)则是以大约1.5纳米的厚度逐层堆积而成的。此时的沉积速率是每20次脉冲可沉积1.5纳米,因此相当于每脉冲约0.075纳米。

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5个特点

  • 通过改变电容器的容量,可以自由地将纳米颗粒的粒径控制在1.5纳米至6纳米之间。

  • 只要是导电性材料(靶材),任何材料都可以被等离子体化。
    *目标电阻率0.01Ωcm以下

  • 通过改变气氛,可以轻松生成氧化物和氮化物。此外,将石墨在H2气体中放电,就能得到UNCD(超微晶钻石)。

  • 该装置所负载的纳米粒子,与湿法相比展现出更强的催化活性。

  • APD-P模型被负载在粉末上。APD-S模型则被负载在2英寸基板上。
    ※1、3、4的内容取决于参考文献。

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