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薄膜材料表面缺陷分析用飞纳扫描电镜
薄膜材料表面缺陷分析用飞纳扫描电镜
  • 型号

    薄膜材料表面缺陷分析用 Phenom XL G3
  • 产地

    荷兰
  • 品牌

  • 产品分类

    扫描电镜
  • 关注度

    413
  • 参考报价

产品详情

Phenom XL G3 大仓室台式扫描电镜




产品简介


薄膜材料表面缺陷分析用飞纳扫描电镜Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜,专为薄膜材料表面缺陷分析设计,可有效观察划痕、颗粒、孔洞及结构特征。设备采用 CeB6 灯丝,电子光学放大倍数可达 200,000 X,分辨率优于 8 nm,平均成像时间约 40 秒,支持** 100 × 100 mm 样品,单次可承载 36 个样品,适合大尺寸样品及多样品批量检测场景。广泛应用于薄膜材料缺陷分析、高分子薄膜检测、包装材料观察、表面形貌分析及质量控制等领域。


性能特点


  • 大仓室设计:可容纳** 100 × 100 mm 样品,单次承载 36 个样品,满足批量检测需求

  • 快速成像:平均成像时间约 40 秒,适合多样品快速观察与日常检测

  • 高分辨率成像:分辨率优于 8 nm,电子光学放大倍数**可达 200,000 X

  • CeB6 灯丝:使用寿命 >3,000 小时,维护成本低,长期运行稳定

  • 三档真空模式:支持低、中、高三种真空模式,灵活适配导电/非导电、含水/干燥等多类样品

  • 灵活探测器配置:标配背散射探测器(BSD),可选配二次电子探测器(SED)及能谱探测器(EDS),按需扩展元素分析能力

  • 光学导航相机:彩色光学导航,便于快速定位目标区域

  • 桌面级部署:体积紧凑,无需专用制样室,实验室日常部署便捷


技术参数


参数项规格
电子光学放大倍数200,000 X
光学放大倍数3 - 19 X
分辨率优于 8 nm
电子枪CeB6 灯丝,寿命 >3,000 h
平均成像时间约 40 秒
**样品尺寸100 × 100 mm
样品承载数量36 个
加速电压(基本模式)2 kV / 5 kV / 10 kV / 15 kV / 20 kV
加速电压(高级模式)4.8 kV - 20.5 kV 连续可调
真空模式低真空 / 中真空 / 高真空
标配探测器背散射探测器(BSD)
可选探测器二次电子探测器(SED)、能谱探测器(EDS)
光学导航相机彩色



应用领域


  • 薄膜材料缺陷分析:划痕、颗粒、孔洞等表面缺陷的快速观察与定位

  • 高分子薄膜检测:薄膜表面微观结构、涂层均匀性及剥离缺陷分析

  • 包装材料观察:包装薄膜的层间结构、密封质量与表面损伤检测

  • 表面形貌分析:各类材料表面微观形貌的常规观察与记录

  • 质量控制:产线样品抽检,薄膜产品质量一致性与缺陷率监控


常见问题


Q1:该设备适合哪些样品?


A:适合较大尺寸样品(** 100 × 100 mm)及多样品批量检测(单次 36 个),同时满足常规材料形貌观察需求。


Q2:能否进行元素分析?


A:可以。该设备可根据需求选配能谱探测器(EDS),用于颗粒、异物或局部区域的元素成分分析。


Q3:如何获取报价?


A:产品价格根据设备配置、探测器选型及应用需求确定,欢迎通过平台询价入口提交需求,获取官方选型建议,并可预约试样体验。


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