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TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR
TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR
  • 型号

    TM-DAR
  • 产地

    日本
  • 品牌

    TAIMEI大明化学
  • 产品分类

    氧化铝粉
  • 关注度

    249
  • 参考报价

    60-70万元
产品详情

TAIMEI(大明化学)TM-DAR是其TAIMICRON系列中纯度**的型号之一,专为透明陶瓷和高洁净度电子应用等高端领域设计。


? 详细产品参数

参数项目 TM-DAR 典型值 备注

相态 (Phase) α-Al₂O₃ 稳定的α相氧化铝

纯度 (Al₂O₃) ≥ 99.995% 系列**纯度,属于5N级高纯氧化铝

BET比表面积 14.5 m²/g 高比表面积,提供优异的烧结活性

一次粒子径 0.10 μm 超细且均匀的一次粒子

平均粒子径 0.05 - 0.2 μm 学术文献中给出的范围

松装密度 0.9 g/cm³

振实密度 1.0 g/cm³ 系列**,利于成型

成形密度 2.3 g/cm³ 系列**,在约98 MPa压力下单轴压制

烧结密度 ≥ 3.96 g/cm³ 系列**,可达理论密度的98%以上

烧结温度 1250℃ - 1350℃ 在1300℃以下即可实现致密化烧结

✨ 核心特性详解

**高纯度 (5N级):TM-DAR的纯度高达≥99.995%,是TM-D系列中纯度**的型号。关键杂质如Si (<10ppm)、Fe (<8ppm)、Na (<8ppm) 被严格控制,放射性元素铀(U)和钍(Th)含量分别低于0.004ppm和0.005ppm。


优异的光学性能:作为高透光性专用型号,通过HIP(热等静压)烧结后,TM-DAR可制备出在600nm波长下透光率大于85% 的透明陶瓷。


出色的低温烧结与成型性能:


低温烧结:可在1250℃至1300℃的低温下实现致密化烧结,烧结温度比普通氧化铝低150-200℃。


高成型性:具有系列**的振实密度 (1.0 g/cm³) 和成形密度 (2.3 g/cm³)。通过表面修饰技术有效防止颗粒团聚,在注射成型时填充率可提升15%以上。


? 同系列产品对比

为了更清晰地展现TM-DAR的定位,以下是TM-D系列主要型号的关键参数对比:


型号 主要特点 纯度 (Al₂O₃) BET (m²/g) 一次粒径 (μm) 松装密度 (g/cm³) 振实密度 (g/cm³) 成形密度 (g/cm³) 烧结密度 (g/cm³)

TM-DA 高透光性 ≥99.99% 13.5 0.10 0.8 0.9 2.2 3.95

TM-DAR 超高纯度 ≥99.995% 14.5 0.10 0.9 1.0 2.3 3.96

TM-D 通用型 ≥99.99% 13.5 0.10 0.8 0.9 2.2 3.95

TM-DR 高成形性 ≥99.99% 14.5 0.10 0.9 1.0 2.3 3.96

TM-5D 粗颗粒 ≥99.99% 9.0 0.20 0.8 0.8 2.3 3.93

从上表可见,TM-DAR在纯度、比表面积、振实/成形/烧结密度等关键指标上均处于系列**水平。


总体而言,TM-DAR是一款为透明陶瓷、半导体、光学器件及生物医疗等尖端领域设计的超高纯度氧化铝粉体。


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