该设备用于在电子显微镜的样品表面涂覆金属薄膜，并对其进行导电处理。
作为靶材，主要是钨，它被用于电子显微镜的高倍率观察中。此外，还有许多其他可以用来涂覆的金属。

电极采用风冷磁控管方式，能够在较低电压下实现特殊金属涂层的形成。这是因为气体中的电子会进行磁控运动，从而大幅提升离子化效率。这一设计有助于大大减少对样品的损伤。

该产品必须使用氩气。

该产品包含设备主体、标准靶材（W）、旋转泵，以及由SUS材料制成的柔性真空软管。

典型应用场景

20 万倍以上超高分辨 FE-SEM 样品钨膜导电镀膜、FIB 聚焦离子束超薄保护层制备、原子尺度微观形貌表征、锂电焦炭 / 石墨纳米粉体高分辨三维观测、第三代半导体晶圆微观缺陷检测、生物薄膜 / 高分子低损伤制样、地质矿物超细晶粒立体观测、微型金属电极、硬质抗氧化薄膜研发。