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GMSD2000彩妆膏体连续分散机
GMSD2000彩妆膏体连续分散机
  • 型号

    GMSD2000-202
  • 产地

    上海
  • 品牌

    SGN/思峻
  • 产品分类

    分散机
  • 关注度

    20
  • 参考报价

    5-10万元
产品详情

一、产品概述

SGN GMSD2000 彩妆膏体连续分散机为立式三级管线式卫生级密闭细化装备,严格遵循化妆品 GMP 洁净生产标准,专门针对粉底、口红、眼影、遮瑕、隔离等高粘度彩妆膏体定制开发,一站式解决钛白粉、氧化铁色粉、珠光云母、滑石粉、硅石粉体静电团聚、润湿不充分、膏体颗粒粗糙、上色发花、储存分层开裂等行业痛点。整机采用立式分体结构,研磨分散腔体垂直直立布置,电机横向侧置不锈钢底座,物料依靠重力自上而下递进加工,流道通畅无积料死角;腔体全镜面抛光处理,配套夹套低温控温,柔和梯度剪切工艺,在充分打散粉体团聚的同时保护珠光粉片状结构、蜡质基质不被破坏,保留彩妆光泽与丝滑肤感。设备支持单通道连续出料、罐体闭路循环两种生产模式,可直接对接全自动彩妆配料、灌装生产线,覆盖实验室新品打样、中试放大、日化工厂规模化连续量产全场景,是高端彩妆膏体湿法预分散核心管线设备。

二、工作原理

物料通过负压文丘里吸料系统密闭送入立式三级腔体,分段梯度温和细化,单次过机同步完成干粉浸润、硬团研磨、色粉解聚、蜡油均质、细微脱泡全工序:

一级可调间隙研磨破碎腔锥形研磨齿产生低强度挤压摩擦,破碎色粉、珠光粉体干硬团聚块,干粉与油脂、蜡基载体快速融合,彻底消除粉体鱼眼、浮团,避免成品出现颗粒疙瘩、搓泥感;间隙可微调,适配高固含高蜡基口红、高粉量粉底不同配方。

二级缓释中剪切解离腔低速柔和湍流场打散细碎絮团,分散剂、润肤油脂均匀包覆每一颗颜料颗粒,构建稳定悬浮体系;采用低冲击齿形结构,完整保留珠光云母片状晶体,不打碎珠光片,保障彩妆细腻光泽、显色饱满。

三级纳米精准均质分散腔窄间隙高精度卫生级齿形释放可控水力剪切、空化复合作用力,剥离粉体纳米级软团聚,大幅收窄膏体粒径分布;腔体标配水冷夹套严控加工温升,防止蜡基高温融化、活性护肤成分失效,出料膏体细腻顺滑,长期储存不分层、不开裂、无沉淀。全程管道密闭输送,无粉体外溢扬尘,可配套真空脱泡模块联动生产。

三、核心产品优势

立式卫生腔体,适配高粘度彩妆膏体,易清洁无残留垂直重力流道适配油蜡、油包水、水包油各类高粘彩妆膏体,24 小时连续生产不堵腔、不积料;腔体 Ra≤0.8μm 镜面抛光,定转子模块快拆,无清洗死角,支持 CIP 在线冲洗,更换色号、配方清洁耗时降低 70%,杜绝串色污染,满足彩妆多色柔性生产需求。

三级梯度柔和剪切,保留彩妆质感与珠光效果区别普通高剪切设备强冲击打碎珠光片、破坏蜡质结构,三段式递进分散工艺,先碎团、再包覆、后均质,充分解聚粉体同时保护片状珠光、蜡晶完整,成品上色均匀、光泽通透,涂抹无颗粒、不卡纹,大幅提升彩妆成品感官品质。

单机集成多道工序,精简彩妆制膏产线研磨、分散、均质、预混一体化集成,替代传统搅拌罐 + 三辊机两道前置工序,缩短膏体制备周期 60% 以上,减少产线占地与设备采购成本,批次间细腻度、色差高度统一,降低人工调试成本。

GMP 卫生级全密闭结构,符合日化洁净车间标准整机接触物料部位为 316L 医用级不锈钢,无毛刺无死角,无金属磨屑析出污染膏体;负压密闭吸粉管路,粉体零扬尘、油脂溶剂低挥发;可选配无菌密封、惰性气体保护配置,适配无防腐高端养肤彩妆生产,符合化妆品生产卫生规范。

工艺线性可放大,研发量产参数无缝复刻GMSD2000 全系列机型剪切速率、流量、细化效果线性匹配,实验室小试配方、转速、温度参数可直接平移至量产机型,无需反复调试色浆,适配彩妆品牌新品快速迭代扩产。

智能变频低温控温,适配全品类彩妆配方PLC 变频调速 0~14000rpm 在线可调,可根据色粉硬度、膏体粘度灵活调节剪切强度;循环水冷夹套稳定控温,适配热敏活性彩妆、低温蜡基口红、防晒粉体膏体等多体系配方。

四、主要技术参数

型号

标准流量L/h

转速(rpm

线速度(m/s

马达功率(KW

进出口尺寸

GMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1500

10500

41

11

DN50/DN32

GMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN100/DN80

GMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150


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