一、产品概述
SGN GMSD2000 护肤基质管线研磨机为立式三级卫生级管线式连续研磨分散一体化设备,专为面霜、修护霜、精华乳、凝胶、护肤膏霜基底等护肤基质定制开发,贴合化妆品 GMPC、ISO22716 生产规范,一站式解决粉体原料团聚、膏体颗粒粗糙、油水融合不均、活性物分散差、成品起泡分层等美妆行业痛点。整机采用立式分体管线结构,研磨腔体垂直直立布置,电机横向侧置不锈钢底座,物料依靠重力自上而下递进研磨;全线接触物料部件采用 316L 镜面抛光不锈钢,无卫生死角,支持 CIP 在线清洗、高温消毒,配套夹套低温控温系统,可保护维生素、植物提取物、多肽等热敏护肤活性成分不高温失活。可对接真空乳化釜、连续灌装自动化产线,覆盖美妆实验室打样、中试批量、日化工厂规模化连续生产全场景,是高端护肤基质粉体细化、均质乳化核心管线装备。
二、工作原理
物料经卫生级负压进料管路密闭送入立式三级研磨腔体,单通道一次过机同步完成粉体破碎、润湿融合、超细研磨、均质乳化全工序,也可外接循环罐闭路循环细化:
一级可调间隙研磨破碎腔锥形研磨齿产生柔和挤压、摩擦作用力,快速打散二氧化钛、云母、氧化锌、植物粉体、微晶纤维素等硬质团聚结块;油相、水相、粉体基底瞬间充分浸润,消除干粉鱼眼、浮团,避免膏体出现粗糙颗粒、涂抹搓泥问题。
二级缓释中剪切融合腔低强度梯度湍流场打散细碎絮团,油脂、保湿剂、增稠剂、护肤活性粉体均匀包覆融合,搭建稳定 O/W、W/O 乳化基底,减少膏体内部微气泡生成,缓解长期储存油水分离、沉淀发白现象。
三级纳米超细均质研磨腔窄间隙高精度卫生齿形结构释放可控剪切、空化、撞击复合力场,剥离纳米级软团聚,大幅收窄粉体粒径分布;腔体夹层持续水冷控温,全程低温加工,规避植物精华、维 A 醇、多肽等热敏原料氧化、变色、功效衰减,出料膏体细腻丝滑、透光性好,肤感大幅提升。全程密闭管线输送,无粉尘外溢、无原料挥发损耗,可搭配真空脱泡管路联动作业。
三、核心产品优势
立式卫生腔体,适配高低粘度护肤基质,不易积料垂直重力流道设计,顺畅适配轻薄精华乳、高粘稠修护面霜、油膏、凝胶等不同粘度护肤基底,长时间连续运行无淤积堵腔;定转子、管路全部采用快装卡箍连接,无需工具快速拆装冲洗,腔体无缝隙、无盲管,杜绝原料残留滋生微生物,完全符合化妆品 GMP 生产检查标准。
三级梯度可控研磨,兼顾细腻度与活性物保护区别传统高强度单一研磨设备,三段递进式柔和细化工艺,先碎团、再乳化、后超细均质,在充分打散粉体颗粒、消除颗粒感的同时,降低整体加工温升,完整保留植物提取物、多肽、烟酰胺等活性成分功效,成品膏体通透顺滑、无颗粒、易推开。
研磨乳化一体机,精简护肤基质制膏工序单机集成粉体研磨、高剪切乳化、均质混合多重功能,替代预混搅拌罐 + 胶体磨两道前置工序,缩短膏霜基质制备周期 55% 以上,减少产线占地面积与设备投入,降低人工转运带来的原料污染风险。
全密闭洁净管路,杜绝交叉污染,原料损耗低负压密闭进料 + 全管道封闭式加工,粉体、油脂无外溢扬尘,香精、易挥发保湿剂损耗极低;镜面抛光 316L 不锈钢接触面,可选陶瓷耐磨定转子,无金属碎屑析出,适配敏感肌、医用修护类高端护肤品生产。
工艺线性可放大,研发量产参数完全复刻GMSD2000 全系列机型转速、流量、研磨细度工艺线性匹配,实验室小样配方与加工参数可直接平移至量产机型,无需反复调试膏体配方,适配护肤新品快速迭代、批量扩产需求。
变频智能标准化卫生配置整机搭载防爆 / 普通卫生电机双选配,PLC 变频调速 0~14000rpm 在线可调,根据粉体硬度、膏体粘度灵活调节研磨强度;标配双端面食品级机械密封,冷媒循环夹套恒温控温,适配多配方、多品类护肤基质柔性切换生产。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |