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铜钽合金粉末Cu-Ta
铜钽合金粉末Cu-Ta
  • 型号

    RDB-FM-Cu-Ta
  • 产地

    上海
  • 品牌

    上海研倍
  • 产品分类

    其它金属粉
  • 关注度

    306
  • 参考报价

产品详情

上海研倍新材料 专业生产金属粉末 Cu-Ta 铜钽合金粉末

1、产品信息

货号纯度规格形貌
RDB-FM-CuTa可定制15-53μm / 45-105μm / 53-150μm银灰色粉末

2、产品规格

样品测试包装:客户指定(<1kg / 真空密封瓶)

样品产品包装:1kg / 真空密封瓶

常规产品包装:5kg / 10kg / 25kg / 50kg

备注:采用双层真空包装,内部充入高纯氩气保护,外部为防潮铝箔袋封装,支持定制包装规格。需存放于干燥、通风、无腐蚀性气体的环境中,避免与空气、水汽接触,远离酸、碱、强氧化剂。

3、产品概述

Cu-Ta(铜-钽)是一种典型的“假合金”复合材料。由于Cu和Ta在固态下几乎不互溶(Ta在Cu中的平衡溶解度<0.01 at.%),且不会形成任何中间金属间化合物。其结构为导电Cu相和难熔Ta相交替混合的复杂构型。这种设计将Cu的高导电导热性与Ta的高熔点、高模量、耐腐蚀和低热膨胀系数有机结合,实现了优异的力学性能和物理性能协同。该粉末核心技术在于成分与工艺的精准调控。Cu-Ta复合材料目前主要采用粉末冶金、剧烈塑性变形和冷喷涂等非平衡加工方法制备。粉末主要适配冷喷涂固态沉积、粉末床熔融、选区激光熔化等增材制造工艺以及热等静压、放电等离子烧结和热机械加工等粉末冶金工艺,是高场脉冲磁体、高性能导体和航空航天部件的关键原料。

4、产品用途

Cu-Ta合金粉末凭借其高强、高导、高热稳定性和优异抗辐照性能的组合、能源核电、电子封装及高端导体等领域扮演着革命性高性能材料。

核能装备与先进反应堆:Cu-10%Ta合金在573K经100 dpa中子辐照后,辐照硬化量仅为5.5%,远低于传统铜合金,满足第四代核反应堆(Gen-IV)对堆芯结构材料和包壳材料的抗辐照要求

电子封装与电接触材料:微纳米Cu-Ta复合粉可用于半导体器件热沉和散热基板,满足高功率芯片散热与结构强度需求。

高性能导电部件:在轨道交通接触线、电车架空导线、大型发电机转子导线等领域,Cu-Ta材料的高强度(>450 MPa)与高导电(>70% IACS)组合在保证导电率的同时满足了高张力、高耐磨的运行要求。

增材制造(3D打印) :冷喷涂增材制造是*适合Cu-Ta复合材料的3D打印技术之一,粉末床熔化技术的高冷速(10⁵-10⁶ K/s)也可有效抑制Cu和Ta的相分离,实现纳米级Ta颗粒的均匀分散。

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