一、简要介绍
晶体生长炉可用于多晶锭的定向凝固，通过控制温度梯度、物质传输速率及生长参数，实现单晶的高效、高质量生长，适用于碳化硅、单晶硅等材料的制备。
该设备主要由设备主体、炉管法兰组件、控制面板、感应线圈移动机构、物料升降机构、高真空系统、水冷机等组成。
该设备设计温度为1500℃，PID 程序控温（自整定调节 30段可调程序控温）；
感应线圈可升降可更换圈数，移动行程：200mm，移动速度：1-3mm/h；
内含载物坩埚，坩埚配有升降机构，**行程：200mm，有热电偶实时测温；
二、技术参数
型号 | LFT1600C20VIM VT |
设备重量 | 220KG |
外型尺寸（长*深*高） | 725*1125*1790mm |
输出功率 | 20KW |
震荡频率 | 200-500KHZ |
加热电流 | 2.8-28A |
输入电压 | 三相 380V 50HZ |
负载持续率 | 100%（24小时连续工作） |
控温方式 | PID控制 |
测温方式 | 热电偶测温（可调节测温距离） |
设计温度 | 1500℃ |
炉管尺寸 | Φ80*500mm |
感应线圈 | DN80,1/2/3匝 |
线圈移动行程 | 200mm |
线圈移动速度 | 1-3mm/h |
样品升降行程 | 200mm |
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