设备名称：钙钛矿太阳能电池磁控溅射设备（镀膜机+手套箱复合型）
设备型号：JCPS400
镀膜方式：磁控溅射
真空腔室结构：SUS304方箱式，配有前、后门
真空腔室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm
加热温度：室温～500℃
基片台尺寸：抽屉式：120mm×120mm可旋转、升降
膜厚不均匀性：≤±5.0%（100mmx100mm范围内）
蒸发源/溅射靶：3/4 英寸靶：2-3只 DC/RF电源及偏压电源
晶振膜厚监控仪：国产或进口（可选）
控制方式：PLC/PC控制（可选）
占地面积：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
总功率：≥8kW 三相五线制

1.国内技术**、市场占有率**，设计优化，性能稳定，使用维护成本低；

2.适用于磁控溅射与手套箱环境有机融合，实现制备、封装、测试等工艺无缝对接，广泛用于钙钛矿太阳能电池 /OPV 有机太阳能电池及 OLED薄膜等研究系统等。

3.磁控主要是溅射氧化镍，制备空穴层，溅射ITO制备透明电极，溅射Cu，制备背电极