设备名称：热丝 CVD 金刚石膜沉积设备

设备型号：HF1200

真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冷

真空腔室尺寸：Φ1200mmxH1200mm

真空系统：高真空泵组系统

基片台尺寸：Φ500mm²×600mm² 方形基片台（旋转、升降可选）

衬底温度：600 ～ 1100℃

电源：专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式

气路控制：4 路气体流量控制

控制方式：PC+PLC+ 触摸屏控制

占地面积：主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm

总功率：≥ 300kW

设备名称：热丝 CVD 金刚石膜沉积设备

设备型号：HF1200

真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冷

真空腔室尺寸：Φ1200mmxH1200mm

真空系统：高真空泵组系统

基片台尺寸：Φ500mm²×600mm² 方形基片台（旋转、升降可选）

衬底温度：600 ～ 1100℃

电源：专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式

气路控制：4 路气体流量控制

控制方式：PC+PLC+ 触摸屏控制

占地面积：主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm

总功率：≥ 300kW