镀膜方式：蒸发
腔室结构：方箱式
工艺室尺寸：L1900mmxH2200mmxW550mm
进样室：500mm×600mm×400mm
过渡室：500mm×600mm×400mm
极限真空：6×10-5pa
基片台尺寸：300mm×400mm
基片温度：常温
均匀性：≤±5.0%
溅射靶：低温和高温线源配置
控制：PC
点地面积：4000mm×2500mm×2200
功率：70KW三相五线制
1. 技术先进、设计优化，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
2. 广泛应用于钙钛矿太阳能电池/OPV有机太阳能电池等各种膜层的制备；
如：钙钛矿层、电子传输层及背电极等膜层的制备；
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